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製品情報
Purolite A400 強塩基性陰イオン交換樹脂 | タイプIゲルタイプ、分離床式脱塩および共流再生に適しています
工業用分割床式脱塩装置、アニオンベッド、並流再生システム改良、高シリカ水処理 Purolite A400 強塩基性陰イオン交換樹脂 | タイプIゲルタイプ、分離床式脱塩および共流再生に適しています
並流再生方式は、従来のタイプI構造に比べてシリコンの漏洩が少なく、アルカリ消費量も少ないという利点がある。
為什麼除鹽系統需要強鹼性陰離子樹脂
除鹽（demineralization）的原理是先以陽離子樹脂將水中陽離子換成氫離子，使水呈酸性，再由陰離子樹脂去除硫酸根、氯離子、碳酸與二氧化矽等陰離子。其中二氧化矽最難去除，因為它是弱酸，需要鹼性夠強的樹脂才能有效吸附。
Purolite A400 屬於 Type I 四級銨基，是強鹼性陰離子樹脂中鹼性最強的類型，因此對二氧化矽與弱酸根的去除能力優於 Type II，適合對出水矽含量有要求的場合，例如高壓鍋爐給水與電子業製程用水。
共流再生系統也能達成低矽漏洩
除鹽系統的再生可分為共流與逆流兩種方式。一般認為要壓低出水的二氧化矽含量必須採用逆流再生，但 A400 的特點在於即使在共流再生的系統中，仍能達成良好的二氧化矽去除與低矽漏洩.
這對既有設備特別有價值。台灣不少除鹽系統採用共流再生配置，若運轉一段時間後發現出水矽含量偏高，通常會被建議改造整套再生系統——但更換樹脂型號往往是成本低得多的解法。若您的系統正面臨這個問題，值得先評估樹脂端的改善空間。
另需注意：提高再生液溫度有助於改善二氧化矽漏洩並提升交換容量，因此部分電廠會在再生前後提升陰離子床與氫氧化鈉再生液的溫度，A400 的溫度穩定性可對應這類操作方式。
鹼耗與再生成本
再生藥劑是除鹽系統長期運轉的主要變動成本之一。相較於傳統的 Type I 結構（如 A600），A400 所需的氫氧化鈉用量較少，可直接降低每次再生的藥劑支出。
其再生效率與沖洗特性良好，適合需要頻繁再生的系統——再生次數越多，鹼耗差異累積出的成本差距越明顯。原廠出貨為氯型，使用前需再生為氫氧根型；若需預先再生完成的版本，原廠另有 A400OH 可洽詢。
如何在瑞順的樹脂產品線中選型
A400 是標準等級，主要用於分床除鹽系統的陰離子床，也可用於混床。若您的應用是混床系統且重視再生時的陽陰樹脂分層效果，建議選擇混床專用等級的 Purolite A400MB，它經過抗靜電處理且粒徑分布經調整，分層更確實。
若您需要的是免配比、到貨即裝填的混床成品，請參考 Purolite MB400.
若原水中硫酸根、氯離子等強酸陰離子比例偏高，可考慮在強鹼陰床前段配置弱鹼性陰離子樹脂如 Purolite A100Plus，由弱鹼樹脂以較低的藥劑成本承擔主要負荷，並保護後段強鹼陰床。實際配置建議歡迎與瑞順技術人員討論。
共流再生也能低矽漏洩，鹼耗低於傳統 Type I 結構技術講解
| プロジェクト | 仕様 |
|---|---|
| 樹脂型式 | 凝膠型（標準等級） |
| 高分子結構 | 凝膠型聚苯乙烯，二乙烯苯交聯 |
| 外観 | 球狀顆粒 |
| 官能基 | Type I 四級銨基 |
| イオン形態 | 氯型（Cl⁻） |
| 總交換量（最低） | 1.3 eq/L（氯型） |
| 含水量 | 48 – 54%（氯型） |
| 粒徑範圍 | 300 – 1200 µm |
| 300 µm 以下細粒（最高） | 1% |
| 均勻係數（最高） | 1.7 |
| 割合 | 1.08 |
| 出貨重量（約） | 680 – 715 g/L |
| 操作溫度上限（氯型） | 100°C |
| 操作溫度上限（氫氧根型） | 60°C |
| 建議運轉流速 | 10 – 40 BV/h |
| 認証済み | Kosher、IFANCA Halal、LPPOM MUI Halal |
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